TMAH(수산화테트라메틸암모늄) 는 반도체 포토공정에서 현상액으로 쓰이며 피부 접촉만으로 사망할 수 있는 물질이다. 위험의 핵심: 강염기성 용액으로 인한 화학적 화상은 피부흡수를 용이하게 하고, TMAH는 일반적으로 암모니아 냄새가 나지만 희석된 TMAH(약 2.38% 이하)는 냄새가 거의 나지 않거나 약한 암모니아 냄새가 나고 피부 노출 시 1∼2도 화상 수준이어서 취급자가 위험을 인지하지 못할 수 있다. 급성 독성(LD50, 쥐): 2.38% — 경구·경피 210 mg/kg, 20.0% — 경구·경피 25 mg/kg, 24.9% — 경구·경피 20 mg/kg 으로 농도가 높아질수록 치사량이 급격히 낮아진다. 사용 공정: 반도체 웨이퍼에 포토레지스트(PR) 를 도포하고 굳힘(Bake) 후 마스크를 올려 자외선을 조사해 회로패턴을 형성하는 포토공정(Photolithography) 에서 TMAH를 함유한 현상액을 사용한다. 작업환경관리 및 개인보호구: TMAH를 직접 취급하거나 접액 등의 노출 위험이 있는 경우에는 불침투성 보호복, 보호장갑, 보호장화, 보안경, 방독마스크 등을 갖추고 적절한 보호구를 사용하도록 하여야 한다. 냄새로 알 수 없으므로 누출 감지와 즉시 세척(세안·샤워) 설비를 갖추고, 피부 노출 시 화상이 가벼워 보여도 즉시 다량의 물로 세척하고 의료기관으로 이송하는 절차를 마련한다.
이 지침은 권고이나 세척시설 등(산안규칙 제508조), 관리대상 유해물질 관련 조치(제422조 이하), 물질안전보건자료의 게시·교육(산업안전보건법 제114조)은 법정 의무이며 위반 시 같은 법 제168조·제175조에 따라 처벌·과태료가 부과된다.